第435章 第一臺國產光刻機

  整體來說,這臺機器給人一種高科技、精密工程的感覺。當然,這是在一般人看來的情況下,在袁楓看來這臺光刻機還非常的簡陋和未來Asml的光刻機根本就不是一個級別的產品。

  不過袁楓去過英特爾公司參觀,自然見過他們的光刻機,大致結構和這臺機器也差不多。只能說現在的光刻機,基本都是這樣的。與其說是光刻機,不如說是一臺大型顯微鏡。

  袁楓對這臺光刻機的外形基本滿意,因為哪怕現在是佳能公司的光刻機,看外形也就這種水平。“對了李教授,咱們的這臺光刻機採用的是什麼工藝?理論工藝精度是多少?”

  李紅軍道:“咱們的這臺光刻機採用的是自動對準分步式光刻工藝,屬於非接觸式的加工流程,理論最小加工精度能夠達到一微米左右。”

  袁楓點了點頭,按理說英特爾8086也才三微米左右,加工精度一微米自然是足足有餘了。當然,對方說的也只是理論最小精度,畢竟理論和現實還是有相當差距的。

  “那加工速度怎麼樣?曝光時間多少?”

  “圖案曝光三十秒左右,加工速度就不好說了,速度要看掩膜板的數量和晶圓面積,還要計算人工流程的停機時間。如果以十張掩膜板為例,停機時間,算上晶圓尺寸……每臺機器每小時大概能生產八十顆左右的半導體,算上良品率大概能有五十顆吧!當然工藝更復雜的情況下就不好說了。每小時三四十顆或這十幾二十顆也是可能的,主要還是要看工藝。”

  袁楓點了點頭,按理說二十張板的話,一臺機器,一小時能生產三四十顆芯片也算行了。就算現在的機器性能不行,只能開半天機,每天起碼也能生產三四百顆,一年起碼十萬顆,十臺機器年產能就是一百萬,五百萬芯片產能的話,五十臺機器也就夠了。

  當然以國內現在的需求,似乎五百萬有點多,當然,芯片也不僅僅只Cpu,還有其他芯片要生產呢!而且這都是理想的情況下,實際情況可能更加的複雜,可能需要數量更多的光刻機,而且生產線也要重新設計。

  就在這個時候有人拿過來一些白大褂。

  幾人換好白大褂,戴好帽子進入了房間……當然並不是所有人都進去了。

  ……

  空調不斷的抽離空氣中灰塵顆粒……李紅軍則站在光刻機旁,啟動機器,當機器啟動成功,他則看向了袁楓:“首先,我們需要設定好曝光時間、光源強度等關鍵參數。這些參數將直接影響到產品的最終質量和精度。”

  袁楓點點頭,他知道這些都是至關重要的。他注意到控制面板上的顯示屏各種數字,看來應該是光刻機在運行過程中的信息反饋。

  李紅軍打開了光刻機的頂蓋,露出了裡面的晶圓平臺。他小心翼翼地將一塊晶圓放置在平臺上並用夾具固定好。然後,他取出一個掩膜板,這是光刻過程中必不可少的部分,上面刻有電路圖案的模板。

  “這個掩膜板是我們自己測試用的,芯片工藝一般,不過只要圖案將通過光源投射到晶圓上,最終就形成我們需要的電路結構了。”

  袁楓仔細觀察著掩膜板上的圖案,它們雖然微小但卻精細至極。他知道,這些圖案的精確性將直接決定最終芯片的性能。

  一切準備就緒後,李紅軍按下了啟動按鈕……光刻機開始緩緩運轉起來,發出低沉的轟鳴聲。光刻的過程眾人也是全程目擊,隨著時間的推移,機器的運行聲音逐漸穩定下來。

  經過一段時間的等待,光刻機終於完成了曝光過程。

  李紅軍小心翼翼地取出晶圓,展示給袁楓等人看……他們看到晶圓上呈現出清晰、完整的電路圖案,似乎看起來好像是一張地圖。

  李紅軍笑著道:“這就是我們青華大學的鳥瞰圖。”

  袁楓見狀也非常的高興,相信有了這臺機器,自己的芯片工廠就可以正式籌備了。

  ……

  眾人離開了實驗室來到了計算機系的會議室坐好。