佚名 作品

第315章


陳遠喆雖然不算內行。

但是,作為身為聲名遠揚的投資界大佬,對於光刻機還是知道一二的。

就因為知道,所以此刻才顯得如此震驚。

雙重曝光光刻技術是指在光刻膠覆蓋的晶片上分別進行兩次曝光。

兩次曝光是在同樣的光刻膠上進行的,但使用不同的掩模版。

相比於紫外光刻技術,整整領先了一代。

而目前,全球知名半導體企業,所用的,還只是紫外光刻。

這玩意,明明還在試驗階段,陸一鳴是怎麼搞到手的?

陳遠喆心裡很明白,就算是自己,不,就算是自己背後的高盛,也沒有這樣通天的手段。

將雙重曝光光刻機給搞到手?

怎麼聽起來這麼邪乎呢?

看來,自己需要重新定義一下陸一鳴的能量了。

“陸。。。陸總,您確定,您沒有開玩笑?真的是雙重曝光光刻機?”

此時的樊東,說話都有些不利索。

這。。。

國內就不提了,國外大廠使用的,也不過是1980年左右面世的紫外光刻。

樊東在麻省理工的時候,在導師的帶領下,參與過雙重曝光光刻的研究與運用。

全新的雙重曝光光刻技術,給樊東留下了深刻的印象。