三寸寒秋 作品
第二百八十二章：最簡單的保研方式是什麼
高純度的氮化硅材料基底正在進行‘等熱-離子滲透’加工，
而韓元一心多用的一邊照顧著，另一邊則在特定條件下將用於製備‘有源層’的磷化砷銦複合材料再進行提純過濾一次。
提純用的設備在無塵工作室裡面有，是他之前就通過系統商城兌換出來的零件組裝的。
組裝好後就一直沒有動過，淨潔方面完全完全不用擔心。
過濾一次、提純一次，處理好後的‘磷化砷銦複合材料’保存在特製的容器中，以保持液體狀態備用
處理氮化硅基底、過濾提純有源層。
光是這兩個製備步驟走完就已經過去了兩個小時左右。
枯燥無味的步驟看的直播間裡面的觀眾紛紛欲睡，大部分的觀眾都離開了直播間忙自己的事情去了。
閒極無聊留下來的觀眾要麼是掛機的，要麼在直播間內互相用彈幕聊天，或者互相問候對方有沒有馬。
至於各國各科研所蹲守在直播間內的光學專家們則目不轉睛的盯著直播畫面，生怕錯過了任何細節。
縱然心中有一堆疑惑，但也沒人發送彈幕或私信詢問。
這個主播平常的時候根本就不怎麼回答一些專業性問題，只有開播的時候或者下播的時候才有機會。
每當一個專業問題被回答的時候，提問的人心裡就像古代的妃女被皇帝翻了牌子一樣，滿是驚喜
氮化硅基底、有源層、薄膜層等材料都製備好後，韓元才稍稍停頓了一下手上的工作，一屁股坐在地上小憩著。
再不休息一會，他都感覺自己的大佬要過載了。
同時處理兩件事，讓他整個人忙的飛起，宛如一臺精密設定卻功能有限的儀器一樣，根本就沒有其他的腦細胞去控制他說話。
休息了十來分鐘後，韓元才恢復一點精力，站起身，拉過鏡頭道:
“現在‘分佈式布拉格反射鏡’的氮化硅基底已經制備好了，接下來我要給它進行週期性鍍刻有源層和薄膜層了。”
“雖然利用化學氣相沉積法制備布拉格反射鏡相對於其他方法來說步驟要多一些，但實際製取起來，在有專門儀器的情況下，速度是要快一點的。”
“第一步要做的是將剛剛製備出來的氮化硅材料清洗乾淨，然後放入腔室內進行加熱升溫。”
“等到溫度提升到一定程度後，使用‘等熱-離子摻雜法’在表面侵入一層離子鍍層。”
“這裡可以使用離子注入機，對比‘離子摻雜發’來說效果會更好一點。”
“因為高能離子注入機能將離子更深入的注入到氮化硅基底晶格里面去。”
“而且相對來說，使用高能離子注入機注入離子層需要的時間更短一些，更適合批量生產。”
“不過缺點也是有的，在使用高能離子注入機後，高速碰撞的離子會損壞氮化硅基底的晶格，需要進行一次氮化硅離子的填充補入。”
“至於使用等熱-離子摻雜法，耗時會長不少。”
“處理一塊氮化硅基底，如果說高能離子注入機啟動後只需要三分鐘的時間，那麼使用‘等熱-離子摻雜法’需要兩個小時以上的時間。”
“而且過程中必須有人時刻盯著離子溶液中的離子濃度指數，在降低到警戒線前必須立刻補充。”
“至於優點也還是有的，‘等熱-離子摻雜法’破壞氮化硅基底晶格係數低，不需要額外在進行一次補入氮化硅離子材料操作。”
這一次韓元說的一番話，直播間裡面的觀眾倒是有不少都聽懂了。
畢竟之前韓元用過不少次‘等熱-離子摻雜法’了，而每一次使用，都會順帶講解一下優缺點什麼的。
虛擬屏幕上，彈幕如流水般劃過。
而韓元一心多用的一邊照顧著，另一邊則在特定條件下將用於製備‘有源層’的磷化砷銦複合材料再進行提純過濾一次。
提純用的設備在無塵工作室裡面有，是他之前就通過系統商城兌換出來的零件組裝的。
組裝好後就一直沒有動過，淨潔方面完全完全不用擔心。
過濾一次、提純一次，處理好後的‘磷化砷銦複合材料’保存在特製的容器中，以保持液體狀態備用
處理氮化硅基底、過濾提純有源層。
光是這兩個製備步驟走完就已經過去了兩個小時左右。
枯燥無味的步驟看的直播間裡面的觀眾紛紛欲睡，大部分的觀眾都離開了直播間忙自己的事情去了。
閒極無聊留下來的觀眾要麼是掛機的，要麼在直播間內互相用彈幕聊天，或者互相問候對方有沒有馬。
至於各國各科研所蹲守在直播間內的光學專家們則目不轉睛的盯著直播畫面，生怕錯過了任何細節。
縱然心中有一堆疑惑，但也沒人發送彈幕或私信詢問。
這個主播平常的時候根本就不怎麼回答一些專業性問題，只有開播的時候或者下播的時候才有機會。
每當一個專業問題被回答的時候，提問的人心裡就像古代的妃女被皇帝翻了牌子一樣，滿是驚喜
氮化硅基底、有源層、薄膜層等材料都製備好後，韓元才稍稍停頓了一下手上的工作，一屁股坐在地上小憩著。
再不休息一會，他都感覺自己的大佬要過載了。
同時處理兩件事，讓他整個人忙的飛起，宛如一臺精密設定卻功能有限的儀器一樣，根本就沒有其他的腦細胞去控制他說話。
休息了十來分鐘後，韓元才恢復一點精力，站起身，拉過鏡頭道:
“現在‘分佈式布拉格反射鏡’的氮化硅基底已經制備好了，接下來我要給它進行週期性鍍刻有源層和薄膜層了。”
“雖然利用化學氣相沉積法制備布拉格反射鏡相對於其他方法來說步驟要多一些，但實際製取起來，在有專門儀器的情況下，速度是要快一點的。”
“第一步要做的是將剛剛製備出來的氮化硅材料清洗乾淨，然後放入腔室內進行加熱升溫。”
“等到溫度提升到一定程度後，使用‘等熱-離子摻雜法’在表面侵入一層離子鍍層。”
“這裡可以使用離子注入機，對比‘離子摻雜發’來說效果會更好一點。”
“因為高能離子注入機能將離子更深入的注入到氮化硅基底晶格里面去。”
“而且相對來說，使用高能離子注入機注入離子層需要的時間更短一些，更適合批量生產。”
“不過缺點也是有的，在使用高能離子注入機後，高速碰撞的離子會損壞氮化硅基底的晶格，需要進行一次氮化硅離子的填充補入。”
“至於使用等熱-離子摻雜法，耗時會長不少。”
“處理一塊氮化硅基底，如果說高能離子注入機啟動後只需要三分鐘的時間，那麼使用‘等熱-離子摻雜法’需要兩個小時以上的時間。”
“而且過程中必須有人時刻盯著離子溶液中的離子濃度指數，在降低到警戒線前必須立刻補充。”
“至於優點也還是有的，‘等熱-離子摻雜法’破壞氮化硅基底晶格係數低，不需要額外在進行一次補入氮化硅離子材料操作。”
這一次韓元說的一番話，直播間裡面的觀眾倒是有不少都聽懂了。
畢竟之前韓元用過不少次‘等熱-離子摻雜法’了，而每一次使用，都會順帶講解一下優缺點什麼的。
虛擬屏幕上，彈幕如流水般劃過。