第315章

陳遠喆雖然不算內行。

但是，作為身為聲名遠揚的投資界大佬，對於光刻機還是知道一二的。

就因為知道，所以此刻才顯得如此震驚。

雙重曝光光刻技術是指在光刻膠覆蓋的晶片上分別進行兩次曝光。

兩次曝光是在同樣的光刻膠上進行的，但使用不同的掩模版。

相比於紫外光刻技術，整整領先了一代。

而目前，全球知名半導體企業，所用的，還只是紫外光刻。

這玩意，明明還在試驗階段，陸一鳴是怎麼搞到手的？

陳遠喆心裡很明白，就算是自己，不，就算是自己背後的高盛，也沒有這樣通天的手段。

將雙重曝光光刻機給搞到手？

怎麼聽起來這麼邪乎呢？

看來，自己需要重新定義一下陸一鳴的能量了。

“陸。。。陸總，您確定，您沒有開玩笑？真的是雙重曝光光刻機？”

此時的樊東，說話都有些不利索。

這。。。

國內就不提了，國外大廠使用的，也不過是1980年左右面世的紫外光刻。

樊東在麻省理工的時候，在導師的帶領下，參與過雙重曝光光刻的研究與運用。

全新的雙重曝光光刻技術，給樊東留下了深刻的印象。