第460章 謀求投資

    最終，asml公司選擇與臺積電合作，從而成功的研發出了新型的光刻機。

    得益於193nm浸沒式光刻機系統在市場大獲成功，成為全球領先光刻機廠商之後，asml公司很快又投入了全新的euv光刻機的研發。

    在2010年，asml公司首次發售概念性的euv光刻系統nxw:3100，從而開啟euv光刻系統的新時代。

    但是euv光刻機的研發不僅耗資巨大，即使研發成功，其單價也是高的驚人（單臺售價超過1億美元），僅有少數晶圓製造商能夠負擔的起，並且他們之前推出的概念機，有太多的不足之處，根本無法用於實際的生產，也導致了目前大部分的廠商，對於euv光刻機的未來並不看好，這給asml公司帶來了巨大的壓力。

    這也是這一次asml公司會主動提出來尋求合作廠商投資入股的主要原因。

    不過陳威廉知道，許多事情都不會像表面上看起來那麼簡單，就像是asml公司的崛起，背後就有著美利堅的支持，其實就是美利堅同日本，在芯片領域競爭的結果。

    即便是沒有asml公司，美利堅也會想辦法扶持別的公司來與以尼康、佳能為代表的日系廠商競爭。

    只不過是尼康等日系廠商在其中犯了極大的錯誤，因為研究方向的原因，被asml公司所超越。

    在上個世紀八十年代之前，美系和日系廠商在芯片行業還有來有往，甚至最早美利堅公司還佔據上風。

    但到了80年代，日本在光刻機領域形成了壟斷地位，僅尼康一家企業便獨佔50%的市場，佳能則次之。

    那個時候，美利堅本土光刻機公司在日本企業的打擊之下，已經沒有發展的希望。

    因此，美利堅希望能夠扶持他國光刻機企業，而尼康等日本公司顯然不是一個好的選擇，美國可不想養虎為患。

    於是後來，美利堅集結的全球頂尖的科技力量，成立euvllc聯盟來攻克極紫外光（euv）光刻機技術。

    而asml公司則抓住了這次機會，做出了諸多許諾與讓步，成功加入euvlcc聯盟，接觸到了e

    uv光刻技術。

    事實上，到了現在，asml公司的背後，本來就已經有許多的華爾街資本在其中。